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    三價白鉻電鍍工藝原料的功能及控制

    發布日期:2015-03-10

      1、 設備要求:

      A)鍍槽:PVC、ABS、聚乙烯襯槽

      B)陽極:采用專用陽極及鈦鉤

      C)溫度控制:采用鈦加熱管及鈦冷卻管裝置

      D)整流器:9-15V,提供直流電,為使鍍液穩定建議配置安培小時積累計

      2、 原料的功能及控制

      A) 開缸鹽:用于提高鍍液的比重,最佳值為26,每提高一個單位需加22克/升開缸鹽,濃度過高會引起鍍液結晶,使陽極鈍化及打氣管出現堵塞,濃度太低時,會影響鍍液導電性能。

      B) 鉻鹽:補充鍍液所消耗的鉻離子,補充量為400-500克/1000安培小時。由于鉻鹽的溶解度較低,加入時須緩慢地逐少量加入,加入1克/升的鉻鹽,可提高0.15克/升的鉻含量。

      C) 穩定劑:與三價鉻形成穩定的化合物,可去除鍍層上的黑紋使鍍層光亮、提高鍍液的深度能力,濃度過高會影響走位,過低出現黑色條紋鍍層,消耗量為1500-2000毫升/1000安培小時。

      D) 濕潤劑:濃度過少會出現黑色鍍層。消耗量為60毫升/1000安培小時。

      E) 絡合劑:可增大電流密度范圍,過多會增加鍍層黑度。

      F) PH值:可用鹽酸或濃氨水調整PH值,每加入2毫升/升濃鹽酸鍍液PH值降低0.1每加入2毫升/升濃氨水鍍液PH值提高0.1加入鹽酸或氨水之后需攪拌2-4小時才可用PH機測試鍍液PH,PH過高三價鉻會沉淀。

      G) 溫度:鍍液溫度較低時,鍍液深度能力較佳,但鍍層色澤較黑,沉積速度則下降,太低有沉淀析出。鍍液溫度較高時,鍍液的深鍍能力較差,但鍍層色澤較白,沉積速度則較快,太高嚴重影響鍍層覆蓋能力。

      H) 生產中請按安培小時添加,并填寫記錄表。

      3、 金屬雜質控制及影響:

      當三價鉻鍍液受銅、鋅、鎳、鐵、鉛等金屬雜質污染時,鍍層的色澤及外觀會受到某程度影響。金屬雜質含量較高時,鍍層色澤偏黑。含量嚴重過多時,鍍層色澤不均,會出現黑影及黑條紋等情況。鍍液的帶入及工件從掛具上掉入槽中溶解是金屬雜質的主要來源。

      鍍液維護:

      A) 定期清缸,清理掉進缸底的工件,可有效防止金屬雜質對三價鉻鍍層色澤的影響。大部份金屬雜質如鋅、銅、鐵及鎳,加強過濾并做電解處理,即可清除。

      B) 當鍍液受銅污染時,高電流區黑暗,隨著銅雜質濃度的增加,整個電流區黑暗。

      C) 當鍍液受鋅10PPM污染時,鍍液的深鍍能力會下降,低位電流會出現白色污漬。含量過多時,中至低電流密度區會出現白色污漬。

      D) 鍍液受鎳污染時,中電流區會出現棕黑色鍍層,當鍍液同時含有鐵雜質時低電流密度區會呈金色。

      E) 鍍液受鉛離子污染時,低電流會出現白斑,鍍液的深鍍能力較差,含量過高時,高電流密度區鍍層結合力下降。采用電解的方法可去除鉛的污染。

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